晶圆代工厂商如果想要研发全新的制程工艺，那么就需要更加先进的光刻机，而现在最为先进的EUV光刻机几乎都被A *** L所垄断，而现在有消息称A *** L计划在年底出货最新一代的光刻机，产能大幅提升，可以为今后的2nm工艺制程做准备。
作为目前EUV光刻机领域的绝对领导者，A *** L的EUV光刻机也经过了多次迭代，让能效以及产能大幅提升，目前A *** L出货的最新光刻机为NXE：3600D，而下半年将要出货的是NXE：3800E光刻机，与目前的光刻机相比，NXE：3800E光刻机的曝光能力达到了30mJ/cm2，这个性能水平相当于每小时能够制造195片晶圆，经过优化后产能可以达到220片晶圆，与目前的光刻机相比提升了30%，很显然产能的提升也将减缓现在高端芯片产能供应不足的局面。
至于价格的话，属于行业机密了，不过有报道称NXE：3600D光刻机的售价超过了1.5亿美元，也就是10亿元人民币，那么更加先进的NXE：3800E光刻机应该来说只会更加昂贵，毕竟现在整个市场就是A *** L说了算，而且光刻机也是供不应求，包括三星、英特尔以及台积电都将选用A *** L的最新一代的光刻机，如果下半年顺利交付的话，加上调试、安装等时间，预计三星可以在明年将这款光刻机用于2nm制程晶圆的生产之中。
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